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場發射掃描電鏡 LE

秉承飛納臺式電鏡系列全自動操作、快速成像、不噴金觀看絕緣體、完全防震、性能穩定的特點,經過精心的設計,臺式掃描電鏡領軍制造商荷蘭 Phenom-World 公司推出了臺式場發射掃描電鏡 Phenom LE,將臺式電鏡的分辨率提升至優于 2.5nm。

Phenom LE 飛納臺式場發射電鏡采用熱場發射電子源,信噪比高,使用壽命長,保證長期穩定的性能。飛納臺式場發射掃描電鏡能譜一體機標配背散射電子成像、二次電子電子成像和能譜分析功能,可對各種樣品進行高分辨成像及元素分析。

規格參數

Phenom Pro

Phenom ProX

Phenom LE

光學放大

20 - 135 X

20 - 135 X

20 - 135 X

電子光學放大

80 - 150,000 X

80 - 150,000 X

200 - 500,000 X

分辨率

優于 8 nm

優于 8 nm

優于 2.5 nm

數字放大

Max. 12 X

Max. 12 X

Max. 12 X

光學導航相機

彩色

彩色

彩色

加速電壓

5 kV - 15 kV  連續可調

5 kV - 15 kV  連續可調

2 kV - 15 kV  連續可調

真空模式

高分辨率模式

降低荷電效應模式

高分辨率模式

降低荷電效應模式

高分辨率模式

降低荷電效應模式

探測器

背散射電子探測器

二次電子探測器 (選配)

背散射電子探測器

二次電子探測器 (選配)

背散射電子探測器

二次電子探測器 

能譜探測器

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